| Код | Наименование |
| 29.42.11.110 | Станки для обработки любых материалов путем удаления материала лазерным или другим световым или фотонным лучом, используемые в производстве полупроводниковых пластин или приборов |
| 29.42.11.111 | Станки для обработки любых материалов путем удаления материала лазерным лучом, используемые в производстве полупроводниковых пластин или приборов |
| 29.42.11.119 | Станки для обработки любых материалов путем удаления материала другим световым или фотонным лучом, используемые в производстве полупроводниковых пластин или приборов |
| 29.42.11.190 | Станки для обработки любых материалов путем удаления материала лазерным или другим световым или фотонным лучом прочие |
| 29.42.11.191 | Станки для обработки любых материалов путем удаления материала лазерным лучом прочие |
| 29.42.11.199 | Станки для обработки любых материалов путем удаления материала другим световым или фотонным лучом прочие |
| 29.42.11.310 | Станки для обработки металла, работающие с использованием ультразвуковых процессов |
| 29.42.11.390 | Станки для обработки прочих материалов, работающие с использованием ультразвуковых процессов |
| 29.42.11.530 | Станки с числовым программным управлением для обработки любых материалов путем удаления материала электроразрядным способом |
| 29.42.11.550 | Станки (без числового программного управления) для обработки любых материалов, работающие с использованием электроразрядных процессов, прочие |
| 29.42.11.710 | Станки для обработки металлов электрохимическим, электронно-лучевым, ионно-лучевым или плазменно-дуговым способом |
| 29.42.11.711 | Станки для обработки металлов электрохимическим способом |
| 29.42.11.712 | Станки для обработки металлов электронно-лучевым способом |
| 29.42.11.713 | Станки для обработки металлов ионно-лучевым способом |
| 29.42.11.714 | Станки для обработки металлов плазменно-дуговым способом |
| 29.42.11.790 | Станки для обработки прочих материалов электрохимическим, электронно-лучевым, ионно-лучевым или плазменно-дуговым способом |
| 29.42.11.791 | Станки для обработки прочих материалов электрохимическим, электронно-лучевым, ионно-лучевым или плазменно-дуговым способом: для сухого травления рисунка на полупроводниковых материалах |
| 29.42.11.792 | Станки для обработки прочих материалов электрохимическим, электронно-лучевым, ионно-лучевым или плазменно-дуговым способом: станки фрезерные, использующие сфокусированный ионный луч для изготовления или восстановления масок и фотошаблонов рисунков наполупроводниковых устройствах |
| 29.42.11.793 | Станки для обработки прочих материалов электрохимическим, электронно-лучевым, ионно-лучевым или плазменно-дуговым способом: установки для удаления фоторезиста или очистки полупроводниковых пластин |
| 29.42.11.794 | Станки для обработки прочих материалов электрохимическим, электронно-лучевым, ионно-лучевым или плазменно-дуговым способом: установки для сухого травления рисунка на подложках жидкокристаллических устройств |
